Quelque mois après l'annonce d'Intel sur ses nouveaux CPU gravés en 45 nm (les Penryn), AMD dévoile seulement aujourd'hui au CeBIT d'Hanovre les siens. AMD a co-développé cette nouvelle technologie avec IBM, appelée Lithographie Extreme UltraViolet (
EUV). Ce n'est pas, comme certains l'espéraient, le processus HK+MG (High-K+Metal Gate : emploi de transistors à grille métallique -metal gate- et à isolants à haute constante diélectrique -high-k- qui permet de réduire la consommation globale du processeur) qu'AMD et IBM avaient prévu et qu'Intel implémente déjà. « Cette technologie arrivera plus tard sur nos processeurs 45 nm, mais elle n'est pas disponible sur cette série » prévient Gary Silcott, porte parole d'AMD. Pour le moment, AMD ne voit pas le HK+MG comme une priorité car cela n'a pas encore prouvé son efficacité sur son système lithographique.
Sans en dévoiler toutes les caractéristiques, AMD a présenté deux processeurs qui sortiront normalement au cours du second semestre 2008 :
- le Deneb, un Phenom gravé en 45 nm ;
- le Shanghai destiné au marché des serveurs aussi gravé en 45 nm.
Silcott a ajouté qu'AMD sera prêt à livrer au public la nouvelle génération (gravée en 32 nm) au plus tôt fin 2010.
Source :
Reuters